El Sistema MAFA®: Sistema de Modelamiento del Ambiente Físico de Aprendizaje; Guemil Iconos para la emergencia y Diseño del packaging y objetos textiles del Programa de apoyo del recién nacido (PARN), son los proyectos que fueron seleccionados para la Exposición de la Bienal Iberoamericana de Diseño 2018 que se llevará a cabo en Madrid, España, entre el 26 y el 30 de noviembre.
Los proyectos seleccionados desde Diseño UC y que representan a Chile serán incluidos en el catálogo impreso oficial de la Bienal y en la galería de trabajos online de esta edición.
MAFA: Desarrollado por los docentes de Diseño UC, Patricia Manns y Alberto González, en conjunto con la docente de Educación Cynthia Adlerstein, el proyecto busca desarrollar un sistema que permite crear o diseñar salas de jardines infantiles públicos, en las que se potencian y mejoran sostenidamente los aprendizajes de los párvulos. El sistema MAFA ensambla tres componentes de alta innovación que ponen a los equipos pedagógicos en conjunto con los niños, al habitar un ambiente educativo físico flexible, significativo para el aprendizaje, empoderador de la autonomía, promotor del bienestar y de accesibilidad universal. Estos componentes son: una plataforma virtual de modelamiento de ambientes educativos, un set de mobiliario para párvulos y un material de modelamiento para que los mismos niños participen del diseño de la sala.
GUEMIL: Proyecto del docente de Diseño UC, Rodrigo Ramírez, que se compone de una serie de pictogramas open source, orientada a representar situaciones de riesgo y emergencia. Permite disponer de un estándar visual para diversas etapas y plataformas de información (antes → durante → después). Los iconos son recursos simples y útiles para el diseño y la investigación aplicada.
En la iconografía mapuche, el Guemil es un símbolo del sistema de escritura. Representa el dominio tanto de la ciencia y el conocimiento como de la manufactura y el arte de la transformación.
PARN: El ajuar para el recién nacido del Sistema de Protección Integral a la Infancia, Chile Crece Contigo, PARN, es un beneficio que alcanza a todos los nacidos en el sistema público de salud y en cuyo rediseño participaron estudiantes de Diseño UC, las diseñadoras Ana Schacht y Lourdes Sotomayor y los académicos de Diseño UC, Patricia Manns, Alberto González, Patricia de los Ríos, Iván Caro, Felipe Cortez y Camila Ríos.
El proyecto de rediseño incluyó el sistema de embalaje y el sistema de textiles.
Bienal Iberoamericana de Diseño
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